通（tōng）第PET薄（báo）膜在縱向和橫向的F-5值在100~390MPa.但，這種薄膜對於長時間放（fàng）聲或小尺寸的磁帶基膜是不夠用的（de）。因這些磁帶要求薄膜硬度更（gèng）大。薄膜的有效硬度是與薄膜厚度3X膜模量成比例的，即使薄膜很薄，也應該有較高的模量。高模量的薄膜是由增加薄膜分子（zǐ）取向獲得的。因為縱向模量與磁帶運動性有關，而橫向模量與磁頭接（jiē）觸性有關，要求在兩個方向上都具有高模（mó）量。（磁帶的運動性好壞通常是由磁帶（dài）的伸長率（lǜ）、磁帶邊緣損壞（huài）及（jí）磁帶的折疊狀況來（lái）評價的（de））。

以下列舉（jǔ）了一些類型的（de）拉伸薄膜：

①半拉伸薄膜（縱（zòng）向F-5值為130-150MPa）；

②一般拉伸薄（báo）膜（縱向F-5值（zhí）為150~180MPa）；

③過拉伸薄膜（縱向F-5值（zhí）為180~220MPa）；

④超過拉（lā）伸薄膜（縱向F-5值為220~260MPa）；

⑤雙側拉伸薄（báo）膜（mó）（縱向（xiàng）F-5值為150MPa；橫向F-5值為140MPa）.

隨著拉伸（shēn）的增加，PET薄膜的熱收縮率收（shōu）縮率增（zēng）加，熱收縮的變化是與F-5值（zhí）的關（guān）係是不可逆的。

生產拉伸薄膜的基本過程如下：

（1）LD方向拉伸；（2）TD方向拉伸；

（3）LD方向再拉伸；

（4）如果需要（yào），TD方向再拉伸；

（5）熱（rè）固化。

LD方（fāng）向（xiàng）再拉伸是相當困難的，因為薄膜非常薄和（hé）寬，會（huì）導致（zhì）（1）兩邊應成型得相當厚，以防此寬度減小；

（2）預熱和拉伸輥的偏差應（yīng）該盡可能小；

（3）拉伸溫度應隨薄膜通過機器的進程而升高。

由於再拉（lā）伸過程（chéng）通常成本較高，因此提出了另一種（zhǒng）方法以降低製造成本。這種新工藝的特點是，第一次的LD方（fāng）向拉伸分兩步進行（háng）：

（1）流延（yán）薄（báo）膜首先在120~150℃在LD方向（xiàng）拉伸，控製拉伸比，使拉伸薄膜（mó）的雙折射值（zhí）在0.005~0.025之間；

（2）之後第二次（cì）LD方向（xiàng）的拉伸在60~100℃之間（jiān）進行；

（3）這樣獲（huò）得（dé）的單向拉伸薄膜在TD方向以4.3以上的拉伸（shēn）比進行拉伸；

（4）獲得雙向拉伸薄膜之後再熱固化。

根據這樣的加工工藝，由於不需要再次拉伸過程，因此拉伸薄膜的製造（zào）成本較低。有各種方法生產過拉（lā）伸薄膜，下麵列舉了其中的（de）一些方法。

（1）雙取向的薄膜再次同步雙向拉伸

第二次同步拉伸的拉伸（shēn）比分別為：LD方向為1.05~1.90，TD方向為1.0~1.9.同步（bù）拉（lā）伸（shēn）的拉伸溫（wēn）度在（Tg+10）℃和（hé）（Tm-40）℃之間（Tg：玻璃化轉變溫度（dù）；Tm.熔融溫度）。

（2）多步LD方向拉伸（shēn）與再拉伸相結合。

流延薄膜以多步形式在LD方向拉伸為雙折射值在0.02~0.10的單（dān）取向薄膜，之後薄膜（mó）以2.5~45的拉伸比在TD方向拉伸（shēn），並以1.5~2.5的拉伸比在LD方向再拉伸。經過LD、TD及LD拉伸產品的拉伸比高於25.

（3）多步（bù）LD拉伸與（yǔ）同步雙向拉伸相結合.

流延薄膜以多步（bù）形（xíng）式在LD方（fāng）向拉伸為雙折射值在0.02~0.10的單取向薄膜。之後薄膜以高於2.5的拉伸比進行TD方向拉伸（shēn），之後進（jìn）行同（tóng）步（bù）雙向拉伸，此（cǐ）時兩方向的拉伸比在1.4~2.5，產品總（zǒng）的拉伸比在27以上。

（4）伴有區域退火的區域拉伸。

區域拉伸和退火包括在按壓點加熱的張力條件下的（de）薄膜拉伸（shēn）和退火。區（qū）域拉伸的目的是在防止結晶的同時獲得較高的分子取向，它是通過大致（zhì）在Ts溫度時薄膜的頸縮拉伸獲得（dé）的。區域退火的目的（de）是在TC-Tm溫（wēn）度之間較高的張力（lì）下，對拉伸薄膜（mó）退火的方法，獲得分子鏈伸長的晶體。區域退火薄膜的LD方向模量幾乎（hū）是原薄膜的兩倍，盡（jìn）管TD方向的模量有所下降。

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